四（二甲氨基）钛（IV），99％ , 99% TDMAT (99.99%-Ti)
Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV), 99% TDMAT (99.99%-Ti) PURATREM
分子式: Ti[N(CH3)2]4
分子量: 224.20
纯度: 99% TDMAT (99.99%-Ti)
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1.ALD/CVD precursor mainly used for TiN 1, review and TiO2 based thin film depositions.
References:
1.J. Appl. Phys. 2013 1 13 021301 2
2.Microelectron Eng.2009 86 72. 3.J. Vac. Sci Tech. A. 2018 36 06A105. 4.Appl Surf. Sci 2018 462 1029.
