Tetrakis（二甲基氨基）鉿 , (99.99+%-Hf, <0.2% Zr)
Tetrakis(dimethylamino)hafnium, 98+% (99.99+%-Hf, <0.2% Zr) TDMAH, PURATREM
分子式: Hf(N(CH3)2)4
分子量: 354.79
纯度: (99.99+%-Hf, <0.2% Zr)
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1.ALD/CVD precursor for Hf thin film deposition.
References:
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