四(二甲氨基)钛 , 99%
Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV), 99% TDMAT
分子式: Ti[N(CH3)2]4
分子量: 224.20
纯度: 99%
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1.ALD/CVD precursor mainly used for TiN 1 ,review and TiO2 based thin film de positions .
References:
1.J.Appl Phys. 2013 113. 021301.
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4.Appl Surf Sci 2018 462. 1029
5.J App. Phys. 2007. 102. 083521
6.J Electrochem. Soc. 2008 155. H688.
