（叔丁基酰亚胺基）三（二乙基氨基）钽（V） 98％（99.99％-Ta） , (99.99%-Ta)
(t-Butylimido)tris(diethylamino)tantalum(V), min. 98% (99.99%-Ta) PURATREM TBTDET
分子式: C16H39N4Ta
分子量: 468.45
纯度: (99.99%-Ta)
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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产品描述
Technical Note:
1. Useful precursor for the atomic layer deposition of tantalum oxide and tantalum nitride.
References:
1.Journal of Nanosci. and Nanotechno., 2013, 13, 4097. 2.Semicond. Sci. Tech., 2012, 27, 074003/1.
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5. J. Electrochem. Soc., 2010, 157, H652.
6.J.Electrochem. Soc., 2009, 156, H852.
