双（叔丁基亚氨基）双（二甲基氨基）钼（VI），98％ , 98%
Bis(t-butylimido)bis(dimethylamino)molybdenum(VI), 98%
分子式: C12H30MoN4
分子量: 326.33
纯度: 98%
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1.ALD/CVD precursor for molybdenum thin film deposition
References:
1.Chem. Mater. 2007. 19, 263.
2.Chem. Vap. Deposition 2008 14, 71.
3.Thin Solid Films 2008, 516, 6041 .
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6.J. Vac. Sci. Technol A, 2016, 34, 01A103.
7.J. Vac. Sci Technol A 2019. 37. 010907.
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9.J. Vac. Sci. Technol. A.2021. 39, 012407.
