三(二甲胺基)铝二聚体 , 98% (99.9%-Al)
Hexakis(dimethylamino)dialuminum 98% (99.9%-Al) TDMAA
分子式: C12H36Al2N6
分子量: 318.42
纯度: 98% (99.9%-Al)
| 包装 | 库存 | 价格 | |
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暂无数据 | |||
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基本信息
安全信息
化学和物理性质
产品描述
Technical Notes:
1. An overlooked atomic layer deposition precursor.
2. Stoichiometric and catalytic Si-N bond formation using the p-block base TDMAA.
References:
1. Journal of Vacuum Science & Technology, A: Vacuum, Surfaces and Films, 2017, 35, 01B1 28/1.
2. Dalton Transactions, 2015, 44, 12112.
