氧化亚硅(II)溅射靶, 50.8mm (2.0in) 直径 x 6.35mm (0.250in) 厚, 99.9% (metals basis) , 99.9%
Silicon(II) oxide sputtering target, 50.8mm (2.0in) dia x 6.35mm (0.250in) thick, 99.9% (metals basis)
分子式: null
分子量: null
纯度: 99.9%
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