原子层沉积（ALD）前体-百灵威

原子层沉积（ALD）已成为一种沉积功能薄膜的重要技术，它可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌，将被沉积物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面（图1）^[1]。原子层沉积过程是通过连续、自限制的半反应实现的，因其沉积薄膜厚度可控性、均匀性、保形性等优异性能，被广泛应用于电子材料、太阳能电池等领域中^[2]。

图1 原子层沉积反应示意图^[1]

百灵威是集成式科技与工业资源平台，甄选高品质原子层沉积前体，助力电子材料等领域发展。

产品列表

1

品名：
Allyl(cyclopentadienyl)palladium(II), 98%
烯丙基(环戊二烯)钯(II)
CAS：1271-03-0
货号：46-0065

2

品名：
Bis(cyclopentadienyl)cobalt(II), min. 98% (Cobaltocene)
环戊二烯基钴
CAS：1277-43-6
货号：27-0475

3

品名：
Bis(cyclopentadienyl)nickel, 99% (Nickelocene)
双(环戊二烯)镍
CAS：1271-28-9
货号：28-1301

4

品名：
Bis(2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato)nickel(II), min. 98% (99.9%-Ni) [Ni(TMHD)₂]
双(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)镍(II)
CAS：14481-08-4
货号：28-0088

5

品名：
Manganese carbonyl, 98%
羰基锰
CAS：10170-69-1
货号：25-1330

6

品名：
Molybdenum carbonyl, 98%
六羰基钼
CAS：13939-06-5
货号：42-1350

7

品名：
Tetrakis(dimethylamino)tin(IV), 99% (99.99%-Sn) TDMASn PURATREM
四(二甲氨基)锡
CAS：1066-77-9
货号：50-1815

8

品名：
Palladium(II) hexafluoroacetylacetonate, min. 95%
1,1,1,5,5,5-六氟乙酰丙酮钯(II)
CAS：64916-48-9
货号：46-1870

9

品名：
Niobium(V) ethoxide (99.9+%-Nb)
乙醇铌/五乙氧基铌
CAS：3236-82-6
货号：93-4104

10

品名：
Tetravinyltin, 95%
四乙烯基锡
CAS：1112-56-7
货号：227842

11

品名：
Tungsten carbonyl, 99% (＜0.3%-Mo)
六羰基钨
CAS：14040-11-0
货号：74-2200

12

品名：
Triruthenium dodecacarbonyl, 99%
十二羰基三钌
CAS：15243-33-1
货号：526096

13

品名：
Tris(3-hydroxypropyl)phosphine, min. 84%
三(3-羟基丙基)膦
CAS：4706-17-6
货号：15-6375

14

品名：
(Trimethyl)methylcyclopentadienylplatinum(IV), 99%
(三甲基)甲基环戊二烯合铂(IV)
CAS：94442-22-5
货号：78-1350

15

品名：
Vanadium(V) trichloride oxide, min. 99%
三氯氧钒
CAS：7727-18-6
货号：93-2305

16

品名：
Xenon(II) fluoride, 99.5%
二氟化氙
CAS：13709-36-9
货号：54-1500

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配套产品

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不锈钢钢瓶（98-0270）

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原子层沉积（ALD）前体

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