光刻胶按其曝光原理的不同分为正性光刻胶和负性光刻胶，它是由感光树脂、增感剂和溶剂为主要成分组成的光敏感性混合液体，广泛的应用于集成电路、半导体器件、平板显示器、触摸屏以及太阳能光伏材料等领域。

光刻胶单体、光引发剂和产酸剂是光刻胶合成中必不可少的原料，它们决定着光刻胶在曝光工艺中的光固化性能。为此，百灵威特甄选了产品纯度高，质量稳定的光刻胶合成原料供您选择。

• 光刻胶单体：品种齐全，部分产品可提供大包装
• 光引发剂：高纯度、高引发效率
• 光产酸剂：产品纯度≥98%，产酸效率高

396012

5888-33-5

Isobornyl acrylate, 93%, stabilized with 200 - 400 ppm MEHQ
丙烯酸异冰片酯, 含稳定剂: 200 - 400 ppm MEHQ

25G, 100G, 500G

283760

121-46-0

Bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene, 97%, stabilized with 0.05 - 0.25% BHT
双环[2.2.1]庚-2,5-二烯, 含稳定剂: 0.05 - 0.25% BHT

25ML, 100ML, 500ML

482829

2993-85-3

1H,1H,7H-Dodecafluoroheptyl acrylate, 98%
1H,1H,7H-十二氟庚基丙烯酸酯

25G

289722

36405-47-7

2,2,3,4,4,4-Hexafluorobutyl methacrylate, 98%
2,2,3,4,4,4-六氟丁基 甲基丙烯酸酯

5G, 25G

167389

98-86-2

Acetophenone, 98%
苯乙酮

500ML, 2.5L

319287

574-09-4

Benzoin ethyl ether, 99%
安息香乙醚

25G, 100G, 500G