光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的薄膜材料，主要由具有光敏化学作用的高分子聚合物材料及其他成分构成。在紫外线、准分子激光、电子束、离子束或 X 射线等辐射下，其溶解度会急剧变化。

    光刻胶作为光刻工艺中最重要的耗材，广泛应用于集成电路、显示面板及各种细微图形的加工。在光刻工艺中，光刻胶经曝光、显影、刻蚀等流程，可将掩模版图案转移至硅片表面顶层的光刻胶中。后续工艺里，光刻胶能充当刻蚀或离子注入的阻挡层，保护下方材料，最终把设计好的微细图形从掩模版转移至待加工基片，其质量直接决定加工成品的精密程度和良品率。

    在光刻胶的合成中，有几种比较重要的材料，包括光刻胶添加剂、光致产酸剂、光刻胶用单体、光刻胶用光引发剂。

一、光刻胶用单体

    光刻胶用单体是构成光刻胶的基本单元，地位关键，如同建筑基石般决定了光刻胶的基本化学和物理性质。以丙烯酸酯类单体为例，其在聚合反应后可形成具有良好抗蚀性和分辨率的聚合物骨架，为光刻胶赋予硬度、附着力等性能，保障光刻胶在光刻过程中精准实现图案转移。

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二、光刻胶添加剂

    光刻胶添加剂在光刻胶体系中至关重要，它是提升光刻胶品质的关键要素，能够优化光刻胶的多种性能。例如增塑剂可提升光刻胶柔韧性，防止光刻过程中出现破裂；表面活性剂可改善涂布性能，使光刻胶在基底上分布更均匀；稳定剂能增强储存稳定性，延长使用寿命。这些典型试剂通过自身特性有效提升光刻胶在光刻工艺中的表现。

百灵威可提供的光刻胶添加剂有：

三、光致产酸剂

    光致产酸剂在光刻胶体系中有着关键作用，是光刻过程中引发化学变化的关键物质。曝光时，光致产酸剂吸收光子产生酸，该酸会催化光刻胶中聚合物的反应，例如改变光刻胶的溶解性，进而实现图案转移。典型的光致产酸剂如三氟甲磺酸三苯基锍盐，光照后产生的酸可催化光刻胶分子的脱保护反应，使曝光区域和未曝光区域在显影液中的溶解性产生差异，从而精准地将掩膜图案转移至光刻胶上。

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四、光刻胶用光引发剂

    光刻胶用光引发剂是光刻胶体系中的关键成分，它能引发光刻胶的聚合反应，是光刻胶在光刻过程中固化的关键启动因素。典型的光引发剂如安息香醚类，在吸收特定波长的光后，会产生自由基或离子活性种，这些活性种能够引发光刻胶中的单体聚合，使光刻胶从液态转变为固态，实现对掩膜图案的有效复制。

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